咋感觉好像中国搞点啥科研，还得先向美国打个招呼似的

咱们中国这几年科技突飞猛进，挺是在半导体这块儿硬是闯出条路来

咋就让某些人急得坐不住了

说实话，这事儿真让人觉得挺有意思的

== 这光刻机，老关键了 ==

你看，芯片这家伙，可是现代科技的心脏，手机、电脑、汽车，居然家里那冰箱、洗衣机

说白了，芯片里边的那些线路

就是靠光刻机这家伙什儿刻出来的

挺是深紫外线光刻机，咱们叫它DUV光刻机，用193纳米的紫外线光在硅片上刻电路，细得跟头发丝一样

这活儿技术含量高得吓人

这种光刻机过去基本被荷兰的ASML、日本的尼康和佳能把持着，咱中国想买台

你想，这光刻机就像个超级显微镜，不光要看得清，还得刻得细、精度高，稍微差点劲儿

那设备的光源、镜头、机械平台，每一环都得拿捏得死死的

更要紧的那193纳米的氟化氩激光器，稳定性和纯度要求高得让人头大

长期是美国和德国攥着不放的宝贝

2018年开始，美国就盯上了咱这块儿，出口管制一波接一波，2019年华为被拉进“实体清单”

光刻机啥的也跟着被封杀

2022年10月，美国还拉着荷兰、日本盟友一起禁止出口DUV光刻机，连零配件维修都不放过，到了2023年初

荷兰的ASML都逼得停了对咱们DUV设备的供应

这招够狠，明显想卡咱半导体产业的脖子

但依俺看，美国这招有点高估了自己

以为封锁就能让咱们停下来

== 咱们可没闲着，硬是啃出条路来 ==

早在2010年，国家就把半导体列为战略产业，国家集成电路产业投资基金，也就是大基金，一期砸了1387亿，二期又加码2041亿

专门攻克光刻机这块“卡脖子”的硬骨头

上海微电子装备有限公司（SMEE）挑了大梁，联合中科院、清华大学，集结了上千号科研人员

一天到晚没日没夜地啃技术

2015年启动了“02专项”，目标就是从零开始搞光刻机

这研发团队实在天天泡在实验室里，试了上千种材料和工艺组合，光源和镜头这两大难点，他们一点点啃，光光193纳米波长的光源，得保持绝对稳定，稍微偏点儿

镜头更夸张，得把光束聚焦到纳米级别

误差得比头发丝还细上万分之一

2019年到2023年这几年，团队硬是从跟跑变成了并跑

企业那边也不赖，中芯国际、华为这些大厂早就开始用国产设备，给研发队伍反馈

2024年初，国产DUV光刻机开始小批量交付

先用在28纳米到7纳米芯片生产上

即使性能跟ASML那些顶尖机型还有点差距，但已经能满足不少国内芯片厂需求啦

最关键的是，咱自己造的

俺觉得挺牛的，挺是看到台积电分析师2024年6月公开说咱们大陆在DUV光刻机上基本没啥大障碍了

这速度真是让唱衰的都找不着北

国际上不少人都说咱缺技术、缺人才，短时间内造不出DUV光刻机

新加坡网友说得好：“中国做事不声张，悄咪咪干大事，哪天突破了

” 这话听着解气，也挺戳心

美国媒体看到中国国产光刻机市场份额蹭蹭往上涨，开始酸酸地喊啥“逆向工程”，其实咱的光学系统、控制软件都是自己研发

专利申请量还全球排前几

2024年9月9号，工信部官宣国产氟化氩光刻机实现了从零到一的突破

而且，2024年10月，ASML财报显示它在中国市场份额掉了好几个点

国产光刻机却持续抢地盘

这可让全球芯片供应链都开始打鼓

东南亚、欧洲的芯片厂也开始主动找中国，想摸摸合作的门路

下一步是极紫外线光刻机（EUV）这玩意儿用13.5纳米波长的光源，能做7纳米以下尖端芯片

技术难度比DUV高好几个档次

上海微电子2025年初就开始干EUV项目，研发团队又扎进了新一轮攻坚战

有人说中国得十年才能追上，但看咱DUV进度

美国的封锁动作没停，2023年还试图拉着荷兰限制咱维修服务

结果荷兰那边开始犹豫了

你说这市场大，谁都不想丢这块蛋糕

2024年底，ASML财报里已经能看出一点端倪：中国国产设备正抢它那原本的地盘

这些事儿，听听新加坡网友怎么说：“中国不爱嚷嚷

” 这话说得有点味儿，多少表现了全球对美国霸权的反感

一直没指望别人，靠的就是自己

2024年，咱芯片专利申请量占了全球40%以上

光刻机技术论文也在国际期刊上频频露脸

说到底，咱这DUV光刻机突破

是硬实力加上死磕到底的决心

美国想用封锁卡住咱发展，结果反倒逼出了咱的自立自强

你说这事儿，咋不让人服气

好像中国搞科研还得先给美国递申请书似的

但看咱这几年科技突飞猛进，硬是走出条路来

咋就让某些人急得坐不住了

你说这套路，厉害不厉害

俺觉得，这招打得挺带劲的

#夏季图文激励计划第二期#